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晶圓鍵合的1.8μm覆蓋精度技術展示

發(fā)布時間:2020-05-11

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       在格勒諾布爾舉行的2017年歐洲3D峰會(法國,1月23日至25日)上,世界領先的納米電子和數(shù)字技術研究與創(chuàng)新中心imec和晶圓的領先供應商接合設備EV Group(EVG)宣布了其成功合作的擴展,在混合接合和介電接合方面均實現(xiàn)了極佳的晶片間覆蓋精度。通過擴大合作關系,EVG將通過一項聯(lián)合開發(fā)協(xié)議成為imec 3D集成計劃的合作伙伴,以進一步提高晶圓間鍵合的覆蓋精度。

       晶圓間鍵合是一種有前途的技術,可通過三維(3D)集成實現(xiàn)未來IC的高密度集成。這是通過對齊頂部和底部的晶圓,然后將它們結合在一起,從而形成堆疊的IC來實現(xiàn)的。一個重要的優(yōu)點是可以堆疊具有不同技術的晶圓/ IC,例如存儲器和處理器IC。

       用于3D集成的許多對齊技術和鍵合方法已經(jīng)從微機電系統(tǒng)(MEMS)的制造方法發(fā)展而來。MEMS和3D集成之間的根本區(qū)別在于,對準或覆蓋精度必須提高5到10倍。需要精確的覆蓋層以對準堆疊晶圓的鍵合焊盤,這對于通過晶圓間鍵合實現(xiàn)高成品率至關重要。Imec和EVG在重疊精度方面取得了出色的成績。

首先,通過使用EVG的高質(zhì)量鍵合系統(tǒng)改進了(中間)晶圓對晶圓鍵合技術,使鍵合焊盤的集成度達到了最先進的水平,從而實現(xiàn)了高成品率和1.8μm的間距,與ECTC和3DIC等公認會議上最近公布的結果相比,其結果要好得多,后者報告的焊盤尺寸為3.6μm。

       其次,解決了電介質(zhì)(最后通過)晶圓間鍵合技術。該技術需要極好的覆蓋精度,以對準兩個晶片的銅焊盤,然后通過硅通孔(TSV)進行接觸。在這種情況下,在晶圓上實現(xiàn)了300nm的覆蓋。

imec的研究員Eric Beyne解釋說:“通過合力,我們在覆蓋精度方面取得了這些出色的結果?!?nbsp;“我們很高興能夠通過JDP擴展與EVG的合作,并在潔凈室中安裝EVG的GEMINI FB XT晶圓鍵合機。GEMINIFB XT有潛力進一步減少晶圓對晶圓的覆蓋誤差,因此允許用于開發(fā)亞微米晶圓間互連技術?!?/span>

       Markus Wimplinger解釋說:“要進一步提高晶圓間鍵合至200nm以下范圍的覆蓋精度,就需要優(yōu)化晶圓鍵合工具與工藝之間的相互作用,以及預處理和后處理與晶圓材料之間的相互作用?!?EVG公司技術開發(fā)和IP總監(jiān)?!拔覀兒芨吲d與imec合作,努力提高晶圓間鍵合的覆蓋精度,以滿足未來依賴于高密度互連的3D IC設計的需求。”

       Imec的3D集成計劃探索技術選項,以定義創(chuàng)新的解決方案,以經(jīng)濟高效地實現(xiàn)與TSV的3D互連。Imec的3D集成過程完全在300mm上執(zhí)行。Imec還探索3D設計,以提出解決關鍵設計問題的方法,從而在系統(tǒng)級有效使用3D互連。

1.8μm鍵合覆蓋精度.jpg

關于IMEC

       Imec是納米電子和數(shù)字技術領域的世界領先研究與創(chuàng)新中心。我們在微芯片技術領域廣受贊譽的領導地位以及深厚的軟件和ICT專業(yè)知識相結合,使我們與眾不同。通過利用我們在眾多行業(yè)中世界一流的基礎設施以及本地和全球合作伙伴生態(tài)系統(tǒng),我們在醫(yī)療,智能城市和移動性,物流與制造業(yè)以及能源等應用領域創(chuàng)造了突破性的創(chuàng)新。

       作為公司,初創(chuàng)企業(yè)和大學的值得信賴的合作伙伴,我們匯集了來自70多個國家的近3500名杰出人才。Imec的總部位于比利時魯汶,還在荷蘭,臺灣,美國,中國的許多佛蘭德大學分配了研發(fā)小組,并在印度和日本設有辦事處。2015年,imec的收入(P&L)總計為4.15億歐元,截至2016年9月21日,iMinds整合到imec中的收入為5200萬歐元。

       Imec是EnergyVille(www.energyville.be)的合作伙伴。EnergyVille是佛蘭德研究中心KU Leuven,UHasselt,vito和imec在可持續(xù)能源和智能能源系統(tǒng)領域的協(xié)會。

關于EV集團(EVG)

       EV Group(EVG)是制造半導體,微機電系統(tǒng)(MEMS),化合物半導體,功率器件和納米技術器件的設備和工藝解決方案的領先供應商。主要產(chǎn)品包括晶圓鍵合,薄晶圓處理,光刻/納米壓印光刻(NIL)和計量設備,以及光刻膠涂布機,清潔劑和檢查系統(tǒng)。EV Group成立于1980年,為全球范圍內(nèi)的精致的全球客戶和合作伙伴提供服務并提供支持。

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