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EVG獲得VTT技術研究中心用于[超越摩爾]研究光刻機訂單

發(fā)布時間:2020-06-18

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ST.奧地利弗洛里安報道 — EV集團(EVG)是面向MEMS,納米技術和半導體市場的晶圓鍵合和光刻設備的領 先供應商,今 天宣布已從芬蘭VTT技術研究中心(VTT)收到其EVG®120自動抗蝕劑處理系統(tǒng)的訂單)。作為EVG晶圓鍵合和對準系統(tǒng)的現(xiàn)有客戶,VTT率先訂購了zui新版本的EVG120系統(tǒng),與上一代平臺相比,該功能得到了增強,以提供更高的可靠性,吞吐量和工藝性能。 。VTT將使用新的EVG120系統(tǒng)來增加容量,以支持涉及新的和不同涂層材料的并行研發(fā)項目,并支持MEMS,光電,“超越摩爾”技術領域的新研究應用。

       VTT工藝工程經理Heini Saloniemi表示:“光刻在為數(shù)字社會提供動力的設備的生產過程中起著至關重要的作用。“經過對光刻涂層系統(tǒng)的全 面產品評估,VTT在競爭性招標中選擇了EVG120,并將涂層均勻性和涂層厚度的可重復性列為主要評估標準。我們期待收到新的EVG120系統(tǒng),這將改善我們的光刻工藝能力,使我們能夠探索新的研究途徑?!?/span>

       EVG120自動抗蝕劑處理系統(tǒng)可在通用平臺上提供可靠且高質量的涂層和顯影工藝。它的多功能性和靈活性,以及較低的擁有成本,使其成為許多開發(fā)項目可以并行運行的研究環(huán)境的理想系統(tǒng),而其高吞吐率使其可用于批量生產。

       更新后的EVG120平臺保留了上一代平臺的所有行業(yè)領 先功能,包括:緊湊的設計,占用空間zui?。豢啥ㄖ频哪K配置,用于旋涂和噴涂,顯影,烘烤和冷卻;EVG的CoverSpin?技術可優(yōu)化奇形和方形基材的涂層均勻性;EVG專有的OmniSpray®技術用于極端地形的保形涂層;和晶圓邊緣處理。

       更新平臺上的新功能包括:

  • 分離濕處理模塊,以實現(xiàn)恒定條件的腔室到腔室
  • 集成式化學柜,適用于抗蝕劑泵和瓶子(包括對高粘度抗蝕劑的支撐),以改善工藝控 制并縮短分配周期
  • 新型機器人處理系統(tǒng)可提供zui高的可靠性和更高的吞吐量
  • 可選的濕度和溫度控 制,用于恒定的環(huán)境條件

       “作為芬蘭領 先的研究機構,VTT在全球擁有強大的行業(yè)合作伙伴全球網(wǎng)絡,可將突破性的研究轉化為可再生能源,醫(yī) 療保 健,智能產業(yè)和智能城市以及其他領域的新產品和服務。努力不懈地支持我們的主要客戶,例如VTT,” EV集團產品管理總監(jiān)Thomas Wagenleitner說道。“作為這項工作的一部分,我們利用了20多年的抗蝕劑處理經驗,以不斷改進我們的行業(yè)基準EVG120平臺。這使我們能夠以更低的擁有成本為客戶提供更高水平的涂層性能。對于像VTT這樣的尖 端技術的生產工廠和研究實驗室而言,這都是至關重要的。”

EVG120抗蝕劑處理機

關于芬蘭VTT技術研究中心

       芬蘭VTT技術研究中心有限公司是歐洲領 先的研究和技術組 織之一。VTT在芬蘭具有國 家授權。我們使用我們的研究和知識為我們的國內外客戶和合作伙伴提供專 家服務。我們?yōu)樗饺撕凸膊块T提供服務。我們擁有75年的豐富經驗,可通過頂 級研究和基于科學的成果來支持客戶的成長。我們開發(fā)新的智能技術,有利可圖的解決方案和創(chuàng)新服務。我們與客戶合作,為企業(yè)生產技術,并為社會造福成功和幸福。有關芬蘭VTT技術研究中心的更多信息,請訪問http://www.vttresearch.com/。

       VTT Memsfab Ltd是VTT的子公司,提供中小型晶圓加工服務。我們專注于MEMS,光子組件和其他微/納米電子設備。
       我們的制造通?;谂c芬蘭VTT技術研究中心共同開發(fā)的成熟技術平臺。我們的服務使您可以在同一晶圓廠中快 速設計和制造新組件,從而消 除了昂貴且風 險高的技術轉讓項目。有關VTT Memsfab的更多信息,請訪問https://www.vttmemsfab.fi/。

關于EV集團(EVG)

       EV Group(EVG)是制造半導體,微機電系統(tǒng)(MEMS),化合物半導體,功率器件和納米技術器件的設備和工藝解決方案的領 先供應商。主要產品包括晶圓鍵合,薄晶圓處理,光刻/納米壓印光刻(NIL)和計量設備,以及光刻膠涂布機,清潔劑和檢查系統(tǒng)。EV Group成立于1980年,為全球范圍內的精致的全球客戶和合作伙伴提供服務并提供支持。

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